相良 紘/著 -- 培風館 -- 1998.2 -- 571.1571.1 571.1 , 571.1

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所蔵館 所蔵場所 棚区分 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態 WEB書棚
山形県立 地下書庫 /571/サガ/ 105031968 一般和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

資料詳細

タイトル 入門化学プラント設計
副書名 基本設計の進め方と実際
著者 相良 紘 /著  
出版者 培風館
出版年 1998.2
ページ数 215p
大きさ 22cm
一般件名 化学装置
NDC分類(9版) 571.1
NDC分類(10版) 571.1
内容紹介 化学プラント建設の基本的考え方や、プラントを構成する装置や機器の設計の実際について解説し、プラント設計における化学工学全般の理解を促す。
ISBN 4-563-04564-0 国立国会図書館 カーリル