田附 重夫/監修 -- シーエムシー出版 -- 2002.7 -- 578578 578 , 578

所蔵

所蔵は 1 件です。現在の予約件数は 0 件です。

所蔵館 所蔵場所 棚区分 請求記号 資料コード 資料区分 帯出区分 状態 WEB書棚
山形県立 地下書庫 /578/コウ/ 105606693 一般和書 帯出可 在庫 iLisvirtual

資料詳細

タイトル 高分子のエネルギービーム加工
叢書名 CMCテクニカルライブラリー
著者 田附 重夫 /監修, 長田 義仁 /監修, 嘉悦 勲 /監修  
出版者 シーエムシー出版
出版年 2002.7
ページ数 305p
大きさ 21cm
一般件名 高分子化学 , 光学 , プラズマ物理学 , 放射線
NDC分類(9版) 578
NDC分類(10版) 578
内容紹介 光・プラズマ・放射線という3つの手段をエネルギービームを用いた反応加工という統一的な視点から、実際技術とその問題点、今後の展望と可能性などを総括的に考察。86年刊「高分子のビーム加工」を改題した普及版。
ISBN 4-88231-764-8 国立国会図書館 カーリル